Меню

Главная
Случайная статья
Настройки
Mapper Lithography
Материал из https://ru.wikipedia.org

Mapper Lithography — нидерландская компания, разрабатывающая установки безмасочной[англ.] многолучевой электронной литографии для полупроводниковой индустрии.

Mapper расположена в Делфт, вблизи Делфтского технического университета (TU Delft), являющегося одним из акционеров компании.

Содержание

Технология

Традиционная фотолитография для производства полупроводниковых пластин использует набор масок, изображение с которых проецируется специальными установками — степперами на покрытую фоторезистом полупроводниковую пластину. Установки электроннолучевой литографии способны создавать аналогичные структуры на пластинах без использования масок[1]. В них используются тысячи параллельных электронных пучков (модель Matrix 1.1 — около 1,3 тысяч, Matrix 10.10 — 13,3 тысячи). Один пучок от мощного источника (5 кэВ) расщепляется на множество пучков, которые затем управляются с помощью электростатических линз, выполненных по технологии MEMS[2].

Способ управления лучом напоминает работу электронно-лучевых трубок в ЭЛТ-дисплеях или осциллографах.

С 2009 года Mapper Lithography совместно с институтом CEA-Leti (англ.) (Гренобль) продвигают многолучевую безмасочную электронную литографию в рамках совместного проекта IMAGINE[3].

Экспериментальная установка Mapper Lithography (Pre-alpha, 110 лучей по 5 кэВ, 2х2 мкм2 на луч[4]) тестировалась в TSMC в 2008 году[2]. Разрешение составляло около 45 нм, с возможным обновлением до 32 нм в следующих литографах[2]. После повышения количества пучков до 13 тысяч возможно достижение производительности в 10 пластин диаметром 300 мм в час[2].

Для получения адекватных при массовом производстве скоростей литографии предлагается создание кластерного литографа с общей производительностью в 100 пластин в час. В составе кластера будет устанавливаться десять модулей[2][5].

Среди технологических проблем: требуется чрезвычайно интенсивный источник электронов (около 107 A/m2Sr2V), передача маски на управляющую MEMS матрицу должна происходить с высочайшими скоростями (общая — до 10 ТБайт/с, каждый канал около 7,5 Гбит/с)[2]

Инвестиции от Роснано

23 августа 2012 года Роснано объявило об инвестировании 40 миллионов евро в Mapper Lithograpy[6][7]. Используя еще 40 миллионов евро, привлеченные тогда же из других источников, компания Mapper сможет построить новый завод по сборке литографов в Делфте. Его производительность составит до 20 установок в год.

Также планировалось открыть в России (в Санкт-Петербурге[8]) производство одной из ключевых частей литографов — электронно-оптической системы на базе технологии MEMS.

В июле 2014 года в Москве на территории технополиса «Москва» был открыт завод по производству одного из наиболее наукоемких и центральных компонентов безмасочных литографов — элементов электронной оптики на основе МЭМС (микроэлектромеханических систем)[9]. В 2014 году начато производство спейсеров, в октябре 2014 были выпущены первые кремниевые электронные линзы, в 2015 году расширен ассортимент выпускаемых кремниевых линз и начата отладка технологического процесса по производству элементов с управляющими электродами.

Компания признана банкротом 28 декабря 2018. Разработки, интеллектуальные права выкуплены ASML.

После банкротства

Российское подразделение Маппера не разорилось, после банкротства основной компании, «ООО Маппер» полностью выкупило Роснано[10].

См. также
  • ASML — крупнейший производитель классических литографов
  • Другие потенциальные поставщики установок многолучевой электронной литографии:[11]
    • IMS Nanofabrication AG (Vienna, Austria)
    • KLA-Tencor Corp. (Milpitas, California) — технология Reflective Electron Beam Lithography (REBL)


Примечания
  1. Peter Clarke (2012-28-08). Russia backs e-beam lithography firm (англ.). EETimes. Архивировано 2014-01-10. Дата обращения: 2014-01-10. {{cite news}}: Проверьте значение даты: |date= (справка)
  2. 1 2 3 4 5 6 Readiness of Multiple E-Beam Maskless Lithography (MEB ML2) Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine //23 Oct 2009, 6th International Symposium on Immersion Lithography Extensions
  3. Synopsys Joins CEA-Leti’s IMAGINE Program on Maskless Lithography Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // CEA-Leti, 19/09/2011: «IMAGINE. CEA-Leti and MAPPER Lithography launched the program in July 2009 with the delivery of MAPPER’s Massively Parallel Electron Beam Platform to Leti.»
  4. Архивированная копия. Дата обращения: 10 января 2014. Архивировано из оригинала 10 января 2014 года.
  5. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СИСТЕМ БЕСШАБЛОННОЙ ЛИТОГРАФИИ Архивная копия от 10 января 2014 на Wayback Machine // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80
  6. РОСНАНО инвестирует в безмасочную литографию с разрешением до 10 нм Архивная копия от 11 декабря 2013 на Wayback Machine // Пресс-релиз Роснано, 23 августа 2012
  10. https://bo.nalog.ru/download/clarification/6967627 (недоступная ссылка)


Ссылки
Downgrade Counter